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【48812】至纯科技:半导体湿法设备首要聚集在芯片制作的前道工艺掩盖光刻、刻蚀、薄膜、离子注入等

来源:www.kaiyun    发布时间:2024-04-19 22:43:42

简要描述:

每经AI快讯,有投入资金的人在出资者互动渠道发问:贵公司出产的一切相关的半导体设备中,是否有可以...

  每经AI快讯,有投入资金的人在出资者互动渠道发问:贵公司出产的一切相关的半导体设备中,是否有可以适用于先进封装的设备?如果有是哪种设备?用于哪种方式的先进封装?是否有订单?是否被追加订单?

  至纯科技(603690.SH)10月12日在出资者互动渠道表明,公司的半导体湿法设备首要聚集在芯片制作的前道工艺,掩盖光刻、刻蚀、薄膜、离子注入等要害工艺工序段。

  免责声明:本文内容与数据仅供参考,不构成出资主张,运用前核实。据此操作,危险自担。

  特别声明:以上内容(如有图片或视频亦包含在内)为自媒体渠道“网易号”用户上传并发布,本渠道仅供给信息存储服务。

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