7月9日音讯，国内半导体设备厂商至纯科技近来在互动渠道标明，现在至纯科技的28 nm节点悉数湿法工艺设备已认证。
芯片制作分为逻辑芯片规划、芯片代工、封装测验三大环节。芯片代工包含晶圆制作、曝光、刻蚀、清洗等进程。湿法整理洗刷设备归于半导体供应链中的清洗环节。清洗是依据不同芯片工艺的要求，对硅晶圆标明上进行无损清洗，清洗芯片制作的完好进程中残留的颗粒、曝光和腐蚀进程构成的天然氧化层，以及金属污染、有机物、献身层、抛光残留物等杂质。清洁环节占芯片制作工艺过程的30%以上，在芯片制作工艺过程中，清洁环节所占份额。
至纯科技标明，现在国内有三家在湿法工艺设备端供给中湿法工艺设备，分别是至纯科技、北方华创和盛美，国内厂商的市场占有率逐年上升。
信息显现，至纯科技成立于2000年，主营高纯工艺体系的研制、出产与出售；半导体湿法整理洗刷设备的研制、出产与出售；光传感使用及相关光学元件的研制、出产和出售。成绩显现，至纯科技2020年湿法设备出货量超越30台，新增订单5.3亿元，增加211.8%。
除28nm工艺节点外，上海证券报还指出，到纯科技14nm和7nm工艺估计将在2022年得到客户的验证，包含中芯世界、华虹集团、长鑫存储、华为、台湾力晶等行业者。
值得注意的是，上个月，我国电子信息工业开展研究院电子信息研究所所长温晓君在一次采访中说：我国将在2022年末完结14纳米制程设备的打破，至纯科技将于2022年交给给华为、中芯世界认证的14纳米和7纳米整理洗刷设备，这也在某些特定的程度上提高了其可靠性。
