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中微半导体的创始人尹志尧，在60岁回国后开始创业，并成功地将国产蚀刻机推到了5nm水平，不仅打破了外部的垄断局面，还实现了技术核心化。除此之外，上海微电子在光刻机方面也是入局多年，一直有消息称今年或将交付28nm光刻机，
尹志尧在去年和今年的多次接受采访中表示，半导体设备对今后的发展起着至关重要的作用，一代技术一代设备，这都是需要匹配的，但是国内如中芯国际掌握了7nm的技术，但是设备呢？蚀刻机是5nm，光刻机是90nm？他曾呼吁我们应该多方面、加大力度投资半导体设备，以此来稳住发展，而就在近期又有一则好消息传来，又一国产半导体设备迎来突破！
至纯科技近期在某互动平台上表示，国产 28nm 湿法设备慢慢的开始投用，而14nm甚至是7nm的设备，预计到2022年就可以投入使用。
可能说到蚀刻机、光刻机大家都比较熟悉，但是提到湿法工艺设备可能就有点搞不懂了，或是不怎么听说过。
其实这也很正常，清理洗涤设施在整个半导体设备市场中占比只有5-6%，比例很小，且大家日常听到的都是“光刻机”、“蚀刻机”，自然对这样的设备不是很敏感。但是这也是必不可少的一部分。
这样的设备在制作的完整过程中主要起到清洗的作用，清洗芯片制作的完整过程中产生的颗粒、因为曝光、蚀刻而产生自然氧化层以及有机物、牺牲层。虽说现在的清洗分为干法清理洗涤设施和湿法清理洗涤设施，但9成以上都是使用湿法清理洗涤设施，而国内的至纯科技在这一块就很有话语权。
本次被爆出的是28nm，但其也表示14/7nm的设备到2022年的时候也是可以交付，且看它的客户诸如中芯国际、华为等企业，如此一来，也是在芯片产业线上又一个实现了替代的设备。
可能会有人听说，国内半年内新注册了上万家半导体企业，投资了上千亿资金，但是如果仔细区别，很多都是在“设计”领域。
但是对我们来看，真正缺的应该是“制造”方面，为什么这么说呢？就以华为海思为例，其实际水平也算是全球领先了，但是台积电等企业没办法代工后，也只能是搁浅，可倘若国内代工厂有一个能够站出来，那么还会有当下的窘迫吗？
而制造呢？除了晶圆厂之外，更重要的则是设备问题。国内半导体设备工艺水平能够说是参差不齐，有的能做到5nm领先水平，但有的却是90nm水平。
尹志尧曾多次呼吁，我们理应加大在半导体设备方面的投入，要广泛吸纳人才，哪怕是泛半导体设备也能的。
其实作为一个行业的大佬，能够发出这样的呼吁，自然是经过市场的调查以及发展前途而感慨的。
只不过就论设计和制造而言，设计的门槛相对来说比较低一点，容易看到成绩，但这不是最为根本的啊，因为我们真正所要解决的问题，才是当务之急！
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